设备介绍:
真空钨丝炉是一种高温加热设备,主要由真空容器、钨丝加热器、温度控制仪器等部分组成。该产品具有高温均匀、稳定性好、加热效率高的优点,广泛应用于金属材料的高温处理、化学实验、半导体和光电器件制造等领域。
产品特性:
高温均匀:采用钨丝加热器,加热速度快,温度控制准确,能够使加热区温度达到1500℃以上,且温度均匀,保证产品质量。
稳定性好:采用真空容器防止氧化、腐蚀,大大提高了设备的使用寿命,而且能够稳定控制加热温度,满足不同工艺要求。
加热效率高:钨丝加热器转化率高,能够将电能快速转化为热能,提高了加热效率,并且可以节省能源。
操作简便:配备了智能控制系统,操作简单方便,提高了生产效率。
技术参数:
设备形式:上开盖
加热形式:钨电阻加热
加热功率:50KW±10%(具体以实际为准)
工作尺寸:Φ80*120mm(直径×高)
最高温度:2200℃
极限真空度:5.0*10-3Pa (空炉、冷态、经净化)
控温精度:±1℃
控温仪表:昆仑通态液晶触摸屏+宇电控温表
控制方式:PLC自动/手动联锁保护控制
控温方式:钨铼热电偶、红外测温仪
保护气氛:氩气、高纯氮气,压力≤0.03MPa(可调)
结构组成:
设备主要由炉体、炉盖、托盘及物料台、加热电极、加热与保温及测温系统、真空系统、水冷系统、控制系统等组成。
设备结构特征:
炉体为双层水冷结构,内、外壁均采用304材质,并经镜面抛光,表面光滑,有利于缩短抽气时间,且便于清洁,炉壳中间通水冷却,确保炉壁温度低于60℃。炉体的侧部安设有水冷电极。炉体设有真空抽气接口、电极接口、充气接口等。
炉盖为双层水冷结构,内、外壁均采用304材质,表面光滑,有利于缩短抽气时间,且便于清洁,中间通水冷却,炉盖上设有观察窗、排气接口等。
托盘及物料台:
托盘上设有物料支撑系统,物料放置在支撑系统上。
加热与保温系统:
加热器采用高纯钨网,保温屏采用多层钨钼反射屏,由里向外分别是多层高纯钨屏、多层高纯钼屏、多层高温不锈钢屏材料组成隔热屏保温结构,组合成封闭式的空间,因此,工作区温度均匀,热量散失少。保温屏固定在不锈钢框架上,围绕在加热室外侧布置,以保证对工件迅速而均匀地加热。
网站导航
|
晶体石英系列
|
实验设备系列
|
中国科学院上海光学精密机械研究所红外光学材料研究中心光电子材料仪器事业部
地址:上海嘉定区招贤路200号
电话:021-69522126 39530680
传真:021-69522153
友情提醒:
在您选购时,敬请向我方工作人员索取资质证书,确保真实可靠,谢谢!